JGP-560磁控溅射沉积系统

JGP-560磁控溅射沉积系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

磁控溅射法是利用荷能粒子轰击靶材，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺，是目前制备薄膜较成熟的一种制备方法。这种方法是在高真空中充入适量的氩气，然后在阴阳两极施加适当的直流电压，从而使得氩气发生电离。氩离子经过阴极轰击以及加速使得靶材表面原子溅射出来，最终在基底表面形成薄膜。

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。 

主要技术指标：